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Model 6020S OAI 紫外光刻機

價  格:詢價

產  地:更新時間:2021-01-19 15:35

品  牌:型  號:

狀  態:正常點擊量:1327

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 OAI的面板***掩模光刻機 Model 6020S, 用于FOPLP型號6020S -半自動化或自動化,實現500mm x 500mm晶圓尺寸的FO-PLP加工.

 

OAI’s Panel Level Mask Aligner for FOPLP Model 6020S - Semi or Automated
Enabling FO-PLP Processing at 500mm x 500mm Wafer Sizes


OAI掩模對準器,不同的印刷方式

 

距離: 間隙可設置在***個非常寬的范圍內,增量精度1µM

軟接觸: •基材被帶入非常柔軟的機械接觸曝光時的掩模。通過接觸力可調軟件設置

金屬觸點: •接觸額外的氮氣壓力

真空接觸: •真空***別控制接觸力。真空度為由用戶設置


OAI Mask Aligners
Various Printing Modes


PROXIMITY: 
• THE GAP IS SETTABLE OVER A VERY WIDE RANGE WITH AN  INCREMENTAL PRECISION OF 1µM 

SOFT CONTACT: 

• SUBSTRATE IS BROUGHT INTO VERY SOFT MECHANICAL CONTACT WITH THE MASK DURING EXPOSURE. THE CONTACT FORCE IS ADJUSTABLE VIA  SOFTWARE SETTINGS

HARD CONTACT:

• CONTACT WITH ADDITIONAL N2 pressure VACUUM CONTACT: 
• VACUUM LEVEL CONTROLS THE CONTACT FORCE. LEVEL OF VACUUM IS SET BY USER

 

 

OAI’s Panel Level Mask Aligner for FOPLP Model 6020S - Semi or Automated
Enabling FO-PLP Processing at 500mm x 500mm Wafer Sizes



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